金剛石，有“硬度之王”的美譽(yù)，在材料科學(xué)領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。依據(jù)晶體結(jié)構(gòu)差異，金剛石可細(xì)分為單晶金剛石與多晶金剛石，這兩類材料雖具備諸多共性，但微觀結(jié)構(gòu)的不同致使它們在性能表現(xiàn)、制備手段以及應(yīng)用范疇等層面呈現(xiàn)出顯著區(qū)別。

相同點(diǎn)：“硬核” 出身的天然優(yōu)勢

單晶金剛石和多晶金剛石都屬于金剛石，都具有硬度之王的特性，即使用最鋒利的鋼鐵刀具，幾乎無法留下任何痕跡。其次，兩者都擁有超高的耐磨性，在長期使用過程中，能夠保持自身形狀和性能的穩(wěn)定，不易被磨損消耗。同時都具有良好的熱導(dǎo)率，可以快速將熱量傳遞出去，避免因溫度過高而影響自身性能。這些共同的優(yōu)秀特質(zhì)，讓它們在眾多材料中脫穎而出，成為科研和工業(yè)領(lǐng)域的 “香餑餑”。

單晶金剛石擁有高度規(guī)整、近乎完美的晶體結(jié)構(gòu)。從原子尺度來看，它的碳原子排列極其規(guī)整，按照固定的晶體結(jié)構(gòu)無限重復(fù)延伸，整個晶體內(nèi)部幾乎不存在晶界，是一個完整、單一的晶體。這使得電子云分布均勻?qū)ΨQ，化學(xué)鍵能恒定且強(qiáng)大，維系著物理性質(zhì)在宏觀層面的極致均一性。

多晶金剛石由許多大小不一、取向各異的小晶體（晶粒）聚集而成，這些小晶粒之間存在著晶界，由于晶界的存在，多晶金剛石的結(jié)構(gòu)相對復(fù)雜，沒有單晶金剛石那樣規(guī)則和統(tǒng)一。

在硬度方面，雖然兩者都非常硬，但單晶金剛石由于其完美的晶體結(jié)構(gòu)，在某些方向上硬度表現(xiàn)更為突出，摩氏硬度為10，具有極高的耐磨性，甚至可以達(dá)到多晶金剛石的數(shù)倍，堪稱 “硬度王者”。

光學(xué)性能上，單晶金剛石憑借其純凈、單一的結(jié)構(gòu)，具有極高的透明度和光學(xué)均勻性，是制造高端光學(xué)器件的理想材料，比如用于制造精密的激光窗口和光學(xué)透鏡。而多晶金剛石由于晶界的存在，會對光線產(chǎn)生散射作用，導(dǎo)致其光學(xué)性能相對較差，可在部分對成本敏感、光學(xué)精度要求相對溫和的照明、顯示器件領(lǐng)域得到應(yīng)用。

單晶金剛石：室溫下熱導(dǎo)率高達(dá)2000 W/(m·K)以上，能在高溫高壓環(huán)境下保持穩(wěn)定的物理和化學(xué)性質(zhì)，可應(yīng)用于大功率半導(dǎo)體散熱、激光設(shè)備溫控等領(lǐng)域。

多晶金剛石：熱導(dǎo)率雖因晶界散射有所降低，但在特定溫度區(qū)間內(nèi)，晶界對聲子散射路徑的干擾可轉(zhuǎn)化為優(yōu)勢，實(shí)現(xiàn)對熱導(dǎo)率的調(diào)控，可作為半導(dǎo)體功率器件散熱的熱沉應(yīng)用，其沉淀技術(shù)水平相對容易實(shí)現(xiàn)，制備成本也更具優(yōu)勢。

單晶金剛石和多晶金剛石的制備過程，就像它們選擇了不同的 “成長之路”。單晶金剛石的制備難度較大，目前主要采用高溫高壓法（HPHT）和化學(xué)氣相沉積法（CVD）。高溫高壓法是模擬天然金剛石在地球深處的生長環(huán)境，在高溫（約 1300 - 1700℃）和高壓（約 5 - 7GPa）條件下，促使碳原子重新排列結(jié)晶形成單晶金剛石?；瘜W(xué)氣相沉積法則是在高溫低壓環(huán)境下，將含有碳元素的氣體分解，使碳原子在基底上逐漸沉積生長，最終形成單晶金剛石薄膜。這兩種方法都需要精確控制各種條件，才能制備出高質(zhì)量的單晶金剛石。

多晶金剛石的制備方法通過化學(xué)氣相沉積法制備多晶金剛石時，由于不需要嚴(yán)格控制晶體的單一取向，生長條件相對寬松，因此更容易實(shí)現(xiàn)大面積、快速生長，成本也相對較低。

碳方程50200A MPCVD設(shè)備采用915MHZ的微波頻率及50KW運(yùn)行功率，該設(shè)備單爐可生產(chǎn)8英寸多晶產(chǎn)品，若用于生產(chǎn)單晶金剛石，單爐能夠穩(wěn)定產(chǎn)出多達(dá) 489 片尺寸為 7*7mm 的單晶金剛石，更大尺寸的多晶產(chǎn)品意味著更高的生產(chǎn)效率和更低的單位成本，能夠滿足客戶大規(guī)模生產(chǎn)的需求。同時，我們的設(shè)備在技術(shù)方面也有著諸多創(chuàng)新和突破，確保了產(chǎn)品的高質(zhì)量和穩(wěn)定性。有效降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品的市場競爭力。

單晶金剛石：

（一）半導(dǎo)體領(lǐng)域：作為理想的襯底材料，其寬禁帶、高載流子遷移率等特性有助于晶體管、功率模塊突破高頻、高壓運(yùn)行瓶頸，推動5G基站、電動汽車動力系統(tǒng)芯片等的革新。

（二）光學(xué)儀器制造：用于制造高精度的光學(xué)窗口、透鏡等，如紅外探測器、太空望遠(yuǎn)鏡等，可提高設(shè)備的光線捕捉和解析能力。

（三）超精密加工：如制造切削工具，可實(shí)現(xiàn)對材料的高精度、高效率加工，在加工有色金屬時，表面粗糙度可達(dá)Rz0.1-Rz0.05μm，被加工工件的形狀精度控制在50nm以下。

多晶金剛石：

（一）研磨拋光：作為精密磨料，廣泛應(yīng)用于藍(lán)寶石晶片、碳化硅晶片、功能陶瓷等硬脆材料的精磨和拋光，能在保證加工質(zhì)量的同時提高效率。

（二）電子封裝：多晶金剛石薄膜可作為散熱基板，解決芯片發(fā)熱問題，為電子產(chǎn)品的輕薄化和性能提升提供支持。

（三）半導(dǎo)體散熱：多晶金剛石膜可作為半導(dǎo)體功率器件散熱的熱沉，提高器件的散熱性能，保證其穩(wěn)定運(yùn)行。